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dinesh hegde
Guest
Quoi type de charges (positive ou négative) dans les violations des résultats d'antenne? Je suppose que c'est à la fois, mais j'ai besoin de confirmation dans le processus réel.
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Au cours d'ions etch positive charge s'accumule. Au cours de la CMP (ou plus exactement: après CMP, au cours de plaquette de nettoyage et de séchage) soit pos. ou nég. accumulation de charge peut se produire, en tant que [je] Yashiro [/I] a noté ci-dessus.Quel type de charges (positives ou négatives) des résultats dans les violations des antennes?
Pour une grande zone antenne? Je ne voudrais pas compter sur elle. Dans ce cas, j'ai utilisé pour ajouter un + p deuxième puits n diode (n-bien relié à la DMV, bien sûr).Cas 2: Si le métal est chargée avec des ions positifs puis, la diode est polarisée en inverse, ce courant sera suffisant pour s'acquitter des charges accumulées
Les charges accumulées créera un potentiel de plusieurs centaines ou des milliers de volts de sorte que la diode fonctionne en? soit avant ou inversée de polarisation et à ce niveau de tension il sera ouvert de toute façon. Si elle sera polarisée il ouvrira aux alentours de 0,6 V Si elle sera annulée biaisé, il aura une tension d'ouverture de l'ordre de-60V (cela dépend de la technologie et la taille de diode)Merci, Cas 1: Le métal est chargé d'ions négatifs, puis, la diode est polarisée en direct et il exerce les charges accumulées. Cas 2: Si le métal est chargée avec des ions positifs puis, la diode est polarisée en inverse, ce courant sera suffisant pour s'acquitter des charges accumulées
... et la grille est connectée seront détruits: triste :: evil:... Si elle sera annulée biaisé, il aura une tension d'ouverture de l'ordre de-60V (cela dépend de la technologie et la taille diode)
Au cours de gravure par plasma dans tous les cas:? C'est la cathode du système etch. HV ions d'accélération est nécessaire pour obtenir l'énergie nécessaire etch + gravure perpendiculaire.Que plaquette est mise à la terre au cours des étapes de traitement de plaquettes