P
pugongying
Guest
En LDO, nous avons besoin de grandes résistances environ 100k ~ 200K ohm, peut-on utiliser le N-même résistance?Comment Merci À propos de la contrepartie?!
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P
Panyi
Guest
Normalement, nous utilisons P résistance poly sans siliciure.
A propos du match problème, vous pouvez lire le livre "The Art of Analog Layout".
A propos du match problème, vous pouvez lire le livre "The Art of Analog Layout".
Q
Qutang
Guest
Je pense res Poly est adapté
J
jttzeng
Guest
À ma connaissance, Poly_RPO varition processus de résistance est plus grande là NW résistance.Mais, NW résistance prendra plus de superficie plus grande que la résistance poly pour min.règle.BTW, le coefficient de température de la résistance stratagème pourrait être l'inverse de résistance NW.
L
leo_o2
Guest
N-même résistances est voltage-dépendant
S
stoned
Guest
Salut jttzeng
Je ne pense pas ainsi, la valeur de la résistance NW peut atteindre environ 2k, mais P siliciure wothout resitor est sur le point ,32 k, l'aire est plus petite
Je ne pense pas ainsi, la valeur de la résistance NW peut atteindre environ 2k, mais P siliciure wothout resitor est sur le point ,32 k, l'aire est plus petite
S
surianova
Guest
pugongying a écrit:
En LDO, nous avons besoin de grandes résistances environ 100k ~ 200K ohm, peut-on utiliser le N-même résistance?
Comment Merci À propos de la contrepartie?!
En LDO, nous avons besoin de grandes résistances environ 100k ~ 200K ohm, peut-on utiliser le N-même résistance?
Comment Merci À propos de la contrepartie?!
L
leo_o2
Guest
Salut dénoyautées,
Vous devez prendre en compte: la largeur de la res min Nwell est beaucoup plus grand que la largeur min de P res Poly.Et l'espace de la res min Nwell est aussi beaucoup plus grand que l'espace min de P Poly res à la règle de conception.
Pour la conclusion finale, tous ces éléments doivent être pris en considération.
Vous devez prendre en compte: la largeur de la res min Nwell est beaucoup plus grand que la largeur min de P res Poly.Et l'espace de la res min Nwell est aussi beaucoup plus grand que l'espace min de P Poly res à la règle de conception.
Pour la conclusion finale, tous ces éléments doivent être pris en considération.