Questions sur inadéquation des PMOS / NMOS

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yen

Guest
Chers tous, J'ai quelques question à propos de la question discordance. 1.Pourquoi est une grande disparité des dispositif PMOS pour Vτ? 2.Which (PMOS ou NMOS) est le bruit thermique plus grande? 3.Quels est le seuil d'ajuster implant? 4.Qu sont Avτ et Aßi? merci beaucoup.
 
3 - il s'agit d'une "implantation ionique" stade du dopage pour ajuster la tension de seuil, cela dépend du processus et elle peut impliquer NMOS dopage, PMOS ou les deux, cela peut être fait par un ou plusieurs types de dopants "tout cela dépendra de la fonderie ».
 
1.Pourquoi est une grande disparité des dispositif PMOS pour Vτ? Je suppose que c'est à cause de la faible mobilité des trous. 2.Which (PMOS ou NMOS) est le bruit thermique plus grande? Il n'y a pas de différence entre les PMOS et NMOS concernant le bruit thermique. 3.Quels est le seuil d'ajuster implant? 4.Qu sont Avτ et Aßi? Ils sont deux paramètres à estimer le décalage.
 

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